光学半导体—部件清洗废水处理
项目背景
客户专注于各种高性能光学薄膜与金属化薄膜制备技术研发与制造,致力于满足科学研究、高端智能装备、先进工业加工、消费电子等领域的客户需求,是领先的光学与半导体基础元器件供应商。加工工艺中产生清洗废水需进行达标处理。
企业面临的挑战
此类废液中含有大量有机物、氟离子、碳化硅 、可生性较差,并且COD含量较高,原处理方式为委外处理,费用较高。目前根据政策要求及企业投资回报要求,企业需将废液达标处理方案优化。
待处理水量及委外成本
废水:硅片清洗废水
废水水量约:25L/H
委外处理成本:约6000元/吨。
年处理费用约:90万
优势:
● 占地面积小,易清洁维护
● 自动化程度高,减少人工操作
● 蒸馏水出水质量稳定,节省水资源
● 废水处理的工序安全和运行安全
● 减少能源和运营成本
● 废弃处理量减少至最小倍数
1.收集废液进入至废水存储桶内,中和废液,调节PH值
2.经过过滤系统,去除固体颗粒物及杂质
3.过滤后废液进入EVLO-25 进行蒸发浓缩处理
4.蒸馏水排至厂区废水站。
5.蒸发后少量浓缩液收集后,减少危废体积,委外处理。
废水水质处理前后数据
废水蒸发浓缩 & 浓缩液减量
解决方案:
相关视频:
项目实施效果:
项目安装运行 & 经济效益分析
1.蒸发设备处理浓废水量约500L/天(一天20小时运行状态)。
2.设备调试后稳定运行1年,
3.废水蒸发浓缩比约提高为95%
4.设备仅1名操作点检维护人员
5.年节约废水委外费用约78万
6.蒸馏水出水稳定合格,排入废水站
7.污水在减排零排方面做到了达标